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氧化层对纳米划痕诱导金属定向沉积的影响研究

徐长宝 辛明勇 冯起辉 崔立聪 朱杰 余丙军

江西科学2023,Vol.41Issue(5):936-939,993,5.
江西科学2023,Vol.41Issue(5):936-939,993,5.DOI:10.13990/j.issn1001-3679.2023.05.022

氧化层对纳米划痕诱导金属定向沉积的影响研究

Effect of Oxide Layer on Nanoscratch-induced Directional Deposition of Metals

徐长宝 1辛明勇 1冯起辉 1崔立聪 2朱杰 2余丙军2

作者信息

  • 1. 贵州电网有限责任公司电力科学研究院,550002,贵阳
  • 2. 西南交通大学机械工程学院,610031,成都
  • 折叠

摘要

关键词

单晶硅/纳米划痕/光刻胶/金属微纳结构/氧化层/金属定向沉积

Key words

monocrystalline silicon/nanoscratch/photoresist/metal micro/nanostructures/oxide layer/metal directional deposition

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

徐长宝,辛明勇,冯起辉,崔立聪,朱杰,余丙军..氧化层对纳米划痕诱导金属定向沉积的影响研究[J].江西科学,2023,41(5):936-939,993,5.

基金项目

贵州电网有限责任公司科技项目(GZKJXM20220047). (GZKJXM20220047)

江西科学

1001-3679

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