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化学机械抛光垫在集成电路制造中的专利技术分析

王海 周文 史巍

首都师范大学学报:自然科学版2023,Vol.44Issue(5):P.52-61,10.
首都师范大学学报:自然科学版2023,Vol.44Issue(5):P.52-61,10.DOI:10.19789/j.1004-9398.2023.05.009

化学机械抛光垫在集成电路制造中的专利技术分析

王海 1周文 1史巍1

作者信息

  • 1. 国家知识产权局专利局专利审查协作北京中心,北京100160
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摘要

关键词

化学机械抛光/抛光垫/专利分析/技术路线

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

王海,周文,史巍..化学机械抛光垫在集成电路制造中的专利技术分析[J].首都师范大学学报:自然科学版,2023,44(5):P.52-61,10.

首都师范大学学报:自然科学版

OACSTPCD

1004-9398

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