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负偏压对高界面强度类金刚石薄膜制备的影响

郑锦华 李志雄 刘青云 梅诗阳

材料工程2023，Vol.51Issue(10)：93-100,8.
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材料工程2023，Vol.51Issue(10)：93-100,8.DOI:10.11868/j.issn.1001-4381.2022.001081

负偏压对高界面强度类金刚石薄膜制备的影响

Effect of negative bias voltage on preparation of diamond-like carbon films with high interfacial strength

郑锦华 1李志雄 2刘青云 3梅诗阳2

作者信息

  • 1. 郑州大学 机械与动力工程学院 热能系统节能技术与装备教育部工程研究中心,郑州 450001||河南晶华膜技真空科技有限公司,河南 焦作 454150
  • 2. 郑州大学 机械与动力工程学院 热能系统节能技术与装备教育部工程研究中心,郑州 450001
  • 3. 中国原子能科学研究院,北京 102413
  • 折叠

摘要

关键词

H-DLC/界面强度/直流等离子体增强化学气相沉积/负偏压/摩擦磨损

Key words

H-DLC/interfacial strength/DC-PECVD/negative bias voltage/friction and wear

分类

通用工业技术

引用本文复制引用

郑锦华,李志雄,刘青云,梅诗阳..负偏压对高界面强度类金刚石薄膜制备的影响[J].材料工程,2023,51(10):93-100,8.

基金项目

焦作市创新创业领军团队资助项目(2019TD007) （2019TD007）

河南省"百人计划"资助项目(豫人才办[2015]4号) （豫人才办[2015]4号）

材料工程

OA北大核心CSCDCSTPCD

1001-4381

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