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AlGaN/GaN肖特基二极管阳极后退火界面态修复技术

武鹏 李若晗 张涛 张进成 郝跃

物理学报2023,Vol.72Issue(19):260-266,7.
物理学报2023,Vol.72Issue(19):260-266,7.DOI:10.7498/aps.72.20230553

AlGaN/GaN肖特基二极管阳极后退火界面态修复技术

Interface-state suppression of AlGaN/GaN Schottky barrier diodes with post-anode-annealing treatment

武鹏 1李若晗 2张涛 1张进成 1郝跃1

作者信息

  • 1. 西安电子科技大学,宽禁带半导体器件与集成技术全国重点实验室,西安 710071
  • 2. 西安微电子技术研究所,西安 710054
  • 折叠

摘要

关键词

AlGaN/GaN/肖特基二极管/低反向漏电/低界面态密度

Key words

AlGaN/GaN/Schottky barrier diode/low leakage current/low interface states density

引用本文复制引用

武鹏,李若晗,张涛,张进成,郝跃..AlGaN/GaN肖特基二极管阳极后退火界面态修复技术[J].物理学报,2023,72(19):260-266,7.

基金项目

国家自然科学基金(批准号:62104185)、国家杰出青年科学基金(批准号:61925404)、中央高校基本科研业务费(批准号:QTZX23076)和青年人才托举工程(批准号:2022QNRC001)资助的课题.Project supported by the National Natural Science Foundation of China(Grant No.62104185),the National Science Fund for Distinguished Young Scholars of China(Grant No.61925404),the Fundamental Research Funds for the Central Universities,China(Grant No.QTZX23076),and the Young Elite Scientists Sponsorship Program by CAST,China(Grant No.2022QNRC001). (批准号:62104185)

物理学报

OA北大核心CSCDCSTPCD

1000-3290

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