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掺杂Bi的β-Cu2Se薄膜的微观结构与热电性能

周政旭 陈雨 宋贵宏 胡方 吴玉胜 尤俊华

表面技术2023,Vol.52Issue(10):278-286,312,10.
表面技术2023,Vol.52Issue(10):278-286,312,10.DOI:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2023.10.023

掺杂Bi的β-Cu2Se薄膜的微观结构与热电性能

Microstructure and Thermoelectric Properties of Bi-doped β-Cu2Se Film

周政旭 1陈雨 1宋贵宏 1胡方 1吴玉胜 1尤俊华1

作者信息

  • 1. 沈阳工业大学 材料科学与工程学院,沈阳 110870
  • 折叠

摘要

关键词

热电薄膜/β-Cu2Se薄膜/Bi掺杂/Seebeck系数/载流子浓度

Key words

thermoelectric material/β-Cu2Se film/doping Bi/Seebeck coefficient/carrier concentration

分类

通用工业技术

引用本文复制引用

周政旭,陈雨,宋贵宏,胡方,吴玉胜,尤俊华..掺杂Bi的β-Cu2Se薄膜的微观结构与热电性能[J].表面技术,2023,52(10):278-286,312,10.

基金项目

国家自然科学基金项目(51772193) (51772193)

辽宁省"兴辽英才计划"项目(XLYC2008014)Supported by the National Natural Science Foundation of China(51772193) (XLYC2008014)

Supported by Liaoning Province"Xingliao Talents Program"(XLYC2008014) (XLYC2008014)

表面技术

OA北大核心CSCDCSTPCD

1001-3660

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