物理学报2023，Vol.72Issue(21)：P.274-286,13.DOI:10.7498/aps.72.20231022
硅原子层刻蚀流程的速率优化
白胜波 1陈志华 1张焕好 1陈高捷 1曹世程 1张升博1
作者信息
- 1. 南京理工大学,瞬态物理重点实验室,南京210094
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摘要
关键词
原子层刻蚀/钝化和刻蚀时间/钝化物组分/深宽比分类
信息技术与安全科学引用本文复制引用
白胜波,陈志华,张焕好,陈高捷,曹世程,张升博..硅原子层刻蚀流程的速率优化[J].物理学报,2023,72(21):P.274-286,13.
