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S空位与Tc掺杂单层MoS2的电子结构和磁学性质模拟

付斯年 朱瑞华

硅酸盐通报2023,Vol.42Issue(11):4178-4182,5.
硅酸盐通报2023,Vol.42Issue(11):4178-4182,5.

S空位与Tc掺杂单层MoS2的电子结构和磁学性质模拟

Simulation of Electronic Structure and Magnetism Properties of S Vacancy and Tc-Doped Monolayer MoS2

付斯年 1朱瑞华1

作者信息

  • 1. 牡丹江师范学院物理与电子工程学院,牡丹江 157011
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摘要

关键词

Tc掺杂单层MoS2/第一性原理/电荷密度/电子结构/磁学性质

Key words

Tc-doped ML-MoS2/first-principle/charge density/electronic structure/magnetic property

分类

物理学

引用本文复制引用

付斯年,朱瑞华..S空位与Tc掺杂单层MoS2的电子结构和磁学性质模拟[J].硅酸盐通报,2023,42(11):4178-4182,5.

基金项目

黑龙江省教育厅项目(1451MSYYB007) (1451MSYYB007)

牡丹江师范学院项目(QN2020005) (QN2020005)

硅酸盐通报

1001-1625

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