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GaSb单晶研究进展

刘京明 杨俊 赵有文 杨成奥 蒋洞微 牛智川

人工晶体学报2024,Vol.53Issue(1):1-11,11.
人工晶体学报2024,Vol.53Issue(1):1-11,11.

GaSb单晶研究进展

Research Progress of GaSb Single Crystal

刘京明 1杨俊 2赵有文 3杨成奥 4蒋洞微 4牛智川5

作者信息

  • 1. 中国科学院半导体研究所,中国科学院半导体材料科学重点实验室,低维半导体材料与器件北京市重点实验室,北京 100083||光电子材料与器件重点实验室(中国科学院),北京 100083||中国科学院大学,北京 100049
  • 2. 中国科学院半导体研究所,中国科学院半导体材料科学重点实验室,低维半导体材料与器件北京市重点实验室,北京 100083||光电子材料与器件重点实验室(中国科学院),北京 100083
  • 3. 中国科学院半导体研究所,中国科学院半导体材料科学重点实验室,低维半导体材料与器件北京市重点实验室,北京 100083||光电子材料与器件重点实验室(中国科学院),北京 100083||中国科学院大学材料科学与光电技术学院,北京 100049
  • 4. 光电子材料与器件重点实验室(中国科学院),北京 100083
  • 5. 光电子材料与器件重点实验室(中国科学院),北京 100083||中国科学院大学材料科学与光电技术学院,北京 100049
  • 折叠

摘要

Abstract

In recent years,antimonide infrared technology has developed rapidly and has become one of the important development directions of semiconductor technology.Gallium antimonide(GaSb),as a typical Ⅲ-Ⅴ compound semiconductor,has become a key substrate material for antimonide infrared optoelectronics due to its excellent properties.The demand for GaSb wafers is increasing,and higher requirements are also put forward with the maturing and application of antimonide infrared technology.The properties of epitaxial materials and devices are directly affected by substrate quality,so that GaSb substrates are required to have the characteristics of large size,lower defect density,better surface quality and consistency.The properties,growth methods,research progress at home and abroad,as well as applications of GaSb crystal are reviewed in this paper,and the development prospects are also analyzed.

关键词

锑化镓/化合物半导体/锑化物/晶体/红外光电器件

Key words

GaSb/compound semiconductor/antimonide/crystal/infrared optoelectronics

分类

数理科学

引用本文复制引用

刘京明,杨俊,赵有文,杨成奥,蒋洞微,牛智川..GaSb单晶研究进展[J].人工晶体学报,2024,53(1):1-11,11.

基金项目

国家自然科学基金(62374161) (62374161)

人工晶体学报

OA北大核心CSTPCD

1000-985X

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