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有源区掺杂的AlGaN基深紫外激光二极管性能优化

尹孟爽 张傲翔 张鹏飞 贾李亚 王芳 刘俊杰 刘玉怀

原子与分子物理学报2024,Vol.41Issue(3):170-175,6.
原子与分子物理学报2024,Vol.41Issue(3):170-175,6.DOI:10.19855/j.1000-0364.2024.036006

有源区掺杂的AlGaN基深紫外激光二极管性能优化

Performance optimization of AlGaN-based deep-ultraviolet laser diodes with doped active region

尹孟爽 1张傲翔 1张鹏飞 1贾李亚 1王芳 2刘俊杰 3刘玉怀3

作者信息

  • 1. 郑州大学电气与信息工程学院电子材料与系统国际联合研究中心河南省电子材料与系统国际联合实验室,郑州 450001
  • 2. 郑州大学电气与信息工程学院电子材料与系统国际联合研究中心河南省电子材料与系统国际联合实验室,郑州 450001||郑州大学智能传感研究院,郑州 450001||郑州大学产业技术研究院有限公司,郑州 450001||郑州唯独电子科技有限公司,郑州 450001
  • 3. 郑州大学电气与信息工程学院电子材料与系统国际联合研究中心河南省电子材料与系统国际联合实验室,郑州 450001||郑州大学智能传感研究院,郑州 450001||郑州大学产业技术研究院有限公司,郑州 450001
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摘要

Abstract

In order to improve the operating performance of the deep-ultraviolet laser diodes(DUV-LD),three structures of n-doped,p-doped and n-p-doped with active region quantum barrier are proposed in this paper.Using Crosslight software,the original structure and the three active region doped structures are simu-lated and studied to compare the P-I characteristic curves,V-I characteristic curves,carrier concentrations,radiation recombination rates and energy band diagrams of the four structures.The simulation results show that the performance of n-p doped structure is better,i.e.,its threshold voltage and threshold current of the n-p doped structure decrease to 4.40 V and 23.8 mA,respectively;radiation recombination rate reaches 1.64cm-3/s;The electro-optical conversion efficiency reaches 42.1%at the same injection current,which increases 3.9%compared with the original structure and greatly improves the operating performance of the DUV-LD.

关键词

AlGaN/有源区/量子势垒/掺杂/深紫外激光二极管

Key words

AlGaN/Active region/Quantum barrier/Doped/Deep-ultraviolet laser diode

分类

数理科学

引用本文复制引用

尹孟爽,张傲翔,张鹏飞,贾李亚,王芳,刘俊杰,刘玉怀..有源区掺杂的AlGaN基深紫外激光二极管性能优化[J].原子与分子物理学报,2024,41(3):170-175,6.

基金项目

国家自然科学基金(62174148) (62174148)

国家重点研发计划(2022YFE0112000,2016YFE0118400) (2022YFE0112000,2016YFE0118400)

智汇郑州·1125聚才计划(ZZ2018-45),宁波2025科技创新重大专项(2019B10129) (ZZ2018-45)

原子与分子物理学报

OA北大核心

1000-0364

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