物理学报2024，Vol.73Issue(4)：P.245-255,11.DOI:10.7498/aps.73.20231555
具有多MO喷嘴垂直MOCVD反应腔外延层厚度均匀性的优化理论及应用
摘要
关键词
外延生长/最小二乘拟合/薄膜均匀性/金属有机物化学气相沉积分类
信息技术与安全科学引用本文复制引用
李建军,崔屿峥,付聪乐,秦晓伟,李雨畅,邓军..具有多MO喷嘴垂直MOCVD反应腔外延层厚度均匀性的优化理论及应用[J].物理学报,2024,73(4):P.245-255,11.基金项目
国家重点研发计划(批准号:2018YFA0209003) （批准号:2018YFA0209003）
北京市自然科学基金(批准号:4222060)资助的课题. （批准号:4222060）
