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电子级多晶硅原料中痕量硼磷杂质的脱除研究进展

闫可欣 姜洪涛 高维群 郭晓晖 孙伟振 赵玲

化工学报2024，Vol.75Issue(1)：P.83-94,12.
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化工学报2024，Vol.75Issue(1)：P.83-94,12.DOI:10.11949/0438-1157.20230668

电子级多晶硅原料中痕量硼磷杂质的脱除研究进展

闫可欣 1姜洪涛 2高维群 1郭晓晖 2孙伟振 1赵玲1

作者信息

  • 1. 华东理工大学化学工程联合国家重点实验室,上海200237
  • 2. 新疆协鑫新能源材料科技有限公司,新疆昌吉831100
  • 折叠

摘要

关键词

硼磷杂质/吸附/蒸馏/反应精馏/三氯氢硅/氢

分类

化学化工

引用本文复制引用

闫可欣,姜洪涛,高维群,郭晓晖,孙伟振,赵玲..电子级多晶硅原料中痕量硼磷杂质的脱除研究进展[J].化工学报,2024,75(1):P.83-94,12.

基金项目

新疆维吾尔自治区重大科技专项(2022A01006-1)。 （2022A01006-1）

化工学报

OA北大核心CSTPCD

0438-1157

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