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极性、半极性和非极性InN薄膜的MOCVD外延生长与表征

赵见国 殷瑞 徐儒 倪海彬 陶涛 庄喆 严羽 谢自力 刘斌 常建华

发光学报2024，Vol.45Issue(2)：P.204-210,7.
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发光学报2024，Vol.45Issue(2)：P.204-210,7.DOI:10.37188/CJL.20230303

极性、半极性和非极性InN薄膜的MOCVD外延生长与表征

赵见国 1殷瑞 2徐儒 2倪海彬 2陶涛 3庄喆 3严羽 3谢自力 3刘斌 3常建华2

作者信息

  • 1. 南京信息工程大学电子与信息工程学院,江苏南京210044 南京大学电子科学与工程学院,江苏南京210093
  • 2. 南京信息工程大学电子与信息工程学院,江苏南京210044
  • 3. 南京大学电子科学与工程学院,江苏南京210093
  • 折叠

摘要

关键词

半极性面/非极性面/InN薄膜/外延生长

分类

数理科学

引用本文复制引用

赵见国,殷瑞,徐儒,倪海彬,陶涛,庄喆,严羽,谢自力,刘斌,常建华..极性、半极性和非极性InN薄膜的MOCVD外延生长与表征[J].发光学报,2024,45(2):P.204-210,7.

基金项目

国家自然科学基金(62204121)。 （62204121）

发光学报

OA北大核心CSTPCD

1000-7032

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