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单晶SiC基片干式摩擦化学机械抛光初探

薛明普 肖文 李宗唐 王占奎 苏建修

金刚石与磨料磨具工程2024,Vol.44Issue(1):P.101-108,8.
金刚石与磨料磨具工程2024,Vol.44Issue(1):P.101-108,8.DOI:10.13394/j.cnki.jgszz.2023.0052

单晶SiC基片干式摩擦化学机械抛光初探

薛明普 1肖文 1李宗唐 1王占奎 1苏建修1

作者信息

  • 1. 河南科技学院机电学院,河南新乡453003
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摘要

关键词

SiC基片/干式摩擦化学机械抛光/材料去除率/表面粗糙度

分类

数理科学

引用本文复制引用

薛明普,肖文,李宗唐,王占奎,苏建修..单晶SiC基片干式摩擦化学机械抛光初探[J].金刚石与磨料磨具工程,2024,44(1):P.101-108,8.

金刚石与磨料磨具工程

OA北大核心CSTPCD

1006-852X

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