MoS_(2)/SiO_(2)界面黏附性能的尺寸和温度效应OA北大核心CSTPCD
探索二维材料与其衬底之间的黏附性能对于二维材料的制备、转移以及器件性能的优化至关重要.本文基于原子键弛豫理论和连续介质力学方法,系统研究了尺寸和温度对MoS_(2)/SiO_(2)界面黏附性能的影响.结果表明,由于表面效应引起的热膨胀系数、晶格应变和杨氏模量的变化,MoS_(2)/SiO_(2)界面黏附能随MoS_(2)厚度的减小而增大,而热应变使MoS_(2)/SiO_(2)界面黏附能随温度的升高而逐渐降低.此外,预测了在不同尺寸和温度下MoS_(2)在SiO_(2)衬底上的“脱落”条件,系统阐述了MoS_(2)与SiO_(2)衬底之间黏附性能的物理机制,为基于二维材料电子器件的优化设计提供了理论基础.
段聪;刘俊杰;陈永杰;左慧玲;董健生;欧阳钢;
吉首大学物理与机电工程学院,吉首416000湖南师范大学物理与电子科学学院,低维量子结构与调控教育部重点实验室,长沙410006
物理学
MoS_(2)尺寸和温度效应界面黏附性能原子键弛豫理论
《物理学报》 2024 (005)
P.281-288 / 8
国家自然科学基金(批准号:12364007);湖南省教育厅项目(批准号:21B0502);国家级大学生创新创业训练项目(批准号:202210531007);湖南省大学生创新创业训练项目(批准号:S202310531036)资助的课题.
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