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C-H-F氛围下金刚石薄膜的低温CVD生长过程分析

简小刚 梁晓伟 姚文山 张毅 张斌华 陈哲 陈茂林

金刚石与磨料磨具工程2024,Vol.44Issue(1):P.15-21,7.
金刚石与磨料磨具工程2024,Vol.44Issue(1):P.15-21,7.DOI:10.13394/j.cnki.jgszz.2023.0069

C-H-F氛围下金刚石薄膜的低温CVD生长过程分析

简小刚 1梁晓伟 1姚文山 1张毅 1张斌华 1陈哲 1陈茂林1

作者信息

  • 1. 同济大学机械与能源工程学院,上海201804
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摘要

关键词

CVD金刚石薄膜//沉积机制/第一性原理/吸附/表面化学反应

分类

化学化工

引用本文复制引用

简小刚,梁晓伟,姚文山,张毅,张斌华,陈哲,陈茂林..C-H-F氛围下金刚石薄膜的低温CVD生长过程分析[J].金刚石与磨料磨具工程,2024,44(1):P.15-21,7.

基金项目

国家自然科学基金(51275358)。 (51275358)

金刚石与磨料磨具工程

OA北大核心CSTPCD

1006-852X

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