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一种利用多P埋层的低导通电阻高压SOILDMOS结构

姜焱彬 李琦 王磊 杨保争 何智超

桂林电子科技大学学报2023,Vol.43Issue(6):P.439-445,7.
桂林电子科技大学学报2023,Vol.43Issue(6):P.439-445,7.DOI:10.3969/1673-808X.2022106

一种利用多P埋层的低导通电阻高压SOILDMOS结构

姜焱彬 1李琦 1王磊 1杨保争 1何智超1

作者信息

  • 1. 桂林电子科技大学信息与通信学院,广西桂林541004
  • 折叠

摘要

关键词

击穿电压/比导通电阻/多埋层/阶跃掺杂/LDMOS

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

姜焱彬,李琦,王磊,杨保争,何智超..一种利用多P埋层的低导通电阻高压SOILDMOS结构[J].桂林电子科技大学学报,2023,43(6):P.439-445,7.

基金项目

国家自然科学基金(61464003)。 (61464003)

桂林电子科技大学学报

1673-808X

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