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紫外光催化辅助Ga面GaN化学机械抛光试验研究

杨友明 周海 胡士响 夏丽琴 任相璞

表面技术2024,Vol.53Issue(6):P.157-167,11.
表面技术2024,Vol.53Issue(6):P.157-167,11.DOI:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2024.06.014

紫外光催化辅助Ga面GaN化学机械抛光试验研究

杨友明 1周海 1胡士响 1夏丽琴 1任相璞1

作者信息

  • 1. 盐城工学院机械工程学院,江苏盐城224051
  • 折叠

摘要

关键词

氮化镓/紫外光催化/抛光/MRR/表面粗糙度/单因素试验/正交试验

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

杨友明,周海,胡士响,夏丽琴,任相璞..紫外光催化辅助Ga面GaN化学机械抛光试验研究[J].表面技术,2024,53(6):P.157-167,11.

基金项目

国家自然科学基金面上项目(51675457) (51675457)

盐城工学院研究生实践创新计划(SJCX22_XZ013)。 (SJCX22_XZ013)

表面技术

OA北大核心CSTPCD

1001-3660

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