化学气相沉积HfO_(2)涂层的制备及性能OA北大核心CSTPCD
采用化学气相沉积(CVD)法在难熔金属Mo表面制备厚约8μm的HfO_(2)涂层。通过HSC Chemistry软件从热力学角度探究CVD HfO_(2)的反应过程,分析HfO_(2)涂层的微观形貌、择优生长情况和纳米力学性能,测试涂层与基体的结合力及抗热震性。结果表明:HfO_(2)涂层与基体结合良好,在经历25~2000℃,100次循环热震后涂层表面未出现宏观剥落;划痕法测定的涂层附着力约23 N;在2.5~5μm波段,涂层表面平均发射率为0.48,将Mo在该波段的平均发射率提高了近5倍。
何锐朋;朱利安;王震;叶益聪;李顺;唐宇;白书欣;
国防科技大学空天科学学院,长沙410073
金属材料
化学气相沉积氧化铪涂层热力学计算发射率抗热震性
《材料工程》 2024 (005)
P.67-75 / 9
国家自然科学基金(52071333);湖南省创新型省份建设专项(湖湘青年英才)(2020RC3034)。
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