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偏置电压和温度对22 nm FDSOI器件单粒子瞬态的影响研究

黄潇枫 李臣明 王海滨 孙永姝 王亮 郭刚 汪学明

集成电路与嵌入式系统2024,Vol.24Issue(7):30-36,7.
集成电路与嵌入式系统2024,Vol.24Issue(7):30-36,7.

偏置电压和温度对22 nm FDSOI器件单粒子瞬态的影响研究

Bias voltage and temperature dependence of single-event transient in 22 nm FDSOI devices

黄潇枫 1李臣明 1王海滨 2孙永姝 3王亮 3郭刚 4汪学明5

作者信息

  • 1. 河海大学人工智能与自动化学院,常州 213200
  • 2. 河海大学信息科学与工程学院,常州 213200
  • 3. 北京微电子技术研究所,北京 100076
  • 4. 中国原子能科学研究院国防科技工业抗辐照应用技术创新中心,北京 102413
  • 5. 中煤科工集团常州研究院有限公司,常州 213015
  • 折叠

摘要

Abstract

In order to investigate single-event transient(SET)of 22 nm FDSOI technology,we have built a FDSOI NMOS model based on Sentaurus TCAD and carried out various SET simulations in 22nm FDSOI NMOS.The sensitive region,bias voltage and tempera-ture dependence of SET in 22 nm FDSOI NMOS have been examined.The simulation results show that the sensitive regions in 22 nm FDSOI NMOS are the body region and LDD region near the body region.As the bias voltage increases,the total collected charge is in-creasing,and the width of drain transient pulse current is declining.Compared to the bias voltage,the effect of operating temperature on SET in 22 nm FDSOI NMOS is not significant.

关键词

22 nm FDSOI/单粒子瞬态/亚阈值/TCAD

Key words

22 nm FDSOI/single-event transient/subthreshold/TCAD

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

黄潇枫,李臣明,王海滨,孙永姝,王亮,郭刚,汪学明..偏置电压和温度对22 nm FDSOI器件单粒子瞬态的影响研究[J].集成电路与嵌入式系统,2024,24(7):30-36,7.

基金项目

国防科工局抗辐照应用技术创新基金重点项目(KFZC2020010401). (KFZC2020010401)

集成电路与嵌入式系统

OACSTPCD

1009-623X

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