基于门控循环单元强化学习的晶圆光刻区实时调度方法研究OACHSSCDCSTPCD
Real-time Scheduling of Wafer Photolithography Area Based on Reinforcement Learning with Gated Recurrent Unit
为求解具有动态性、实时性、多约束、多目标特点的晶圆光刻区调度问题,提出一种基于门控循环单元强化学习的晶圆光刻区实时调度方法.设计引入门控循环单元学习光刻区历史调度决策与状态的时序信息,为双深度强化学习模型提供辅助决策信息;设计双深度强化学习模型的输入状态空间、输出动作集,并面向晶圆最小化最大完工时间和晶圆准时交货率指标设计多目标奖励函数,为智能体优化调度输出;设计设备专用性约束与掩模版约束的解约束规则与调度方法相结合,提高调度方案实施的实用性.通…查看全部>>
To address the scheduling problem of wafer photolithography area,characterized by dynamic nature,real-time requirements,multiple constraints,and multiple objectives,a real-time scheduling method based on gated recurrent unit(GRU)reinforcement learning is proposed.This method incorporates GRU to learn the temporal information of historical scheduling decisions and states in the photolithography area,providing auxiliary decision-making information for the doub…查看全部>>
吴立辉;石津铭;金克山;张洁
上海应用技术大学 机械工程学院,上海 201400上海应用技术大学 机械工程学院,上海 201400上海应用技术大学 机械工程学院,上海 201400东华大学 人工智能研究院,上海 201620
经济学
晶圆制造系统光刻区调度深度强化学习门控循环单元(GRU)多目标
wafer fabrication systemscheduling of photolithography areadeep reinforcement learninggated recurrent unit(GRU)multi-objective
《工业工程》 2024 (3)
12-21,30,11
国家重点研发资助项目(2022YFB3305003)上海应用技术大学引进人才科研启动项目(YJ2022-33)
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