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微型阵列束闸设计与实验OA北大核心CSTPCD

中文摘要

微型阵列束闸是多束电子束曝光系统的关键部件,用于控制多束电子束的开/关,实现复杂图形的快速曝光。对3×3微型阵列束闸进行了设计与制作,并进行了多束电子束偏转实验研究。对阵列束闸结构进行了优化设计,并基于MEMS加工工艺成功制备了阵列束闸。针对阵列束闸的控制要求,设计了可单独控制的阵列束闸控制器。将控制器与阵列束闸进行连接,验证了控制器的偏转速度与功能完整性。最后,在多束电子束测试平台对阵列束闸进行了偏转实验,研究串扰对电子束偏转的影响。实验结果表明:阵列束闸控制器的偏转速度达到43.5 MHz,大于设计值10 MHz;阵列束闸成功实现了单独控制电子束开和关,束闸的偏转距离在25~30μm之间,小于计算值43.29μm;串扰程度均小于3%。该阵列束闸已经具备多束电子束开/关控制功能,但在偏转精度,设计和加工工艺等方面还需进一步优化和完善。

张利新;孙博彤;刘星云;殷伯华;刘俊标;韩立;

中国科学院电工研究所微纳加工技术与智能电气设备研究部,北京100190中国科学院电工研究所微纳加工技术与智能电气设备研究部,北京100190 中国科学院大学电子电气与通信工程学院,北京100049

电子信息工程

电子束曝光阵列束闸多束电子束串扰偏转速度

《光学精密工程》 2024 (013)

P.2061-2069 / 9

国家自然科学青年基金资助项目(No.62101528);中国科学院科研仪器设备研制项目(No.GJJ⁃STD20200003)。

10.37188/OPE.20243213.2061

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