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基于磨粒三维轨迹的钽酸锂双面研磨均匀性

薛赛赛 郭晓光 贾玙璠 高尚 康仁科

光学精密工程2024,Vol.32Issue(13):P.2081-2090,10.
光学精密工程2024,Vol.32Issue(13):P.2081-2090,10.DOI:10.37188/OPE.20243213.2081

基于磨粒三维轨迹的钽酸锂双面研磨均匀性

薛赛赛 1郭晓光 1贾玙璠 1高尚 1康仁科1

作者信息

  • 1. 大连理工大学高性能精密制造全国重点实验室,辽宁大连116024
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摘要

关键词

固结磨料研磨/钽酸锂晶片/磨粒运动轨迹/材料去除均匀性

分类

机械制造

引用本文复制引用

薛赛赛,郭晓光,贾玙璠,高尚,康仁科..基于磨粒三维轨迹的钽酸锂双面研磨均匀性[J].光学精密工程,2024,32(13):P.2081-2090,10.

基金项目

国家自然科学基金资助项目(No.52175382)。 (No.52175382)

光学精密工程

OA北大核心CSTPCD

1004-924X

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