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基底温度对磁控溅射制备NiO_(x)薄膜综合电致变色性能的影响

蔡晓佳 黄家健 孙丹丹 梁嘉盈 唐秀凤 张炯

人工晶体学报2024，Vol.53Issue(8)：P.1453-1463,11.
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人工晶体学报2024，Vol.53Issue(8)：P.1453-1463,11.

基底温度对磁控溅射制备NiO_(x)薄膜综合电致变色性能的影响

蔡晓佳 1黄家健 1孙丹丹 2梁嘉盈 3唐秀凤 1张炯3

作者信息

  • 1. 五邑大学应用物理与材料学院,江门529020
  • 2. 东莞理工学院化学工程与能源技术学院,东莞523808
  • 3. 五邑大学土木建筑学院,江门529020
  • 折叠

摘要

关键词

电致变色/NiO_(x)/响应时间/记忆效应/循环稳定性/附着力

分类

通用工业技术

引用本文复制引用

蔡晓佳,黄家健,孙丹丹,梁嘉盈,唐秀凤,张炯..基底温度对磁控溅射制备NiO_(x)薄膜综合电致变色性能的影响[J].人工晶体学报,2024,53(8):P.1453-1463,11.

基金项目

国家自然科学基金(12004285) （12004285）

五邑大学创新创业基金(2022CX47)。 （2022CX47）

人工晶体学报

OA北大核心CSTPCD

1000-985X

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