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基于45 nm CMOS SOI工艺的毫米波双频段低相噪压控振荡器设计

陈喆 王品清 周培根 陈继新 洪伟

电子学报2024,Vol.52Issue(7):P.2161-2169,9.
电子学报2024,Vol.52Issue(7):P.2161-2169,9.DOI:10.12263/DZXB.20230645

基于45 nm CMOS SOI工艺的毫米波双频段低相噪压控振荡器设计

陈喆 1王品清 1周培根 1陈继新 1洪伟1

作者信息

  • 1. 东南大学毫米波全国重点实验室,江苏南京211111
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摘要

关键词

互补金属氧化物半导体绝缘体上硅工艺/压控振荡器/5G毫米波/双频段

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

陈喆,王品清,周培根,陈继新,洪伟..基于45 nm CMOS SOI工艺的毫米波双频段低相噪压控振荡器设计[J].电子学报,2024,52(7):P.2161-2169,9.

基金项目

国家重点研发计划(No.2020YFB1804904) (No.2020YFB1804904)

国家自然科学基金(No.62188102,No.62171128)~~。 (No.62188102,No.62171128)

电子学报

OA北大核心CSTPCD

0372-2112

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