表面技术2024，Vol.53Issue(17)：P.157-169,13.DOI:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2024.17.014
高频电源与活性屏离子渗氮对表面纳米化TC4钛合金渗氮层结合力的影响
摘要
关键词
TC4钛合金/活性屏离子渗氮/高频电源/表面纳米化/结合力分类
矿业与冶金引用本文复制引用
高鸿,文凯,张乘玮,高岩..高频电源与活性屏离子渗氮对表面纳米化TC4钛合金渗氮层结合力的影响[J].表面技术,2024,53(17):P.157-169,13.基金项目
国家自然科学基金项目(51871099)。 （51871099）
