小闪耀角单晶硅光栅结构参数优化及制备工艺OA北大核心CSTPCD
Optimization of structural parameters and fabrication of monocrystalline silicon gratings with small blazed angle
本文开展了对单晶硅小闪耀角光栅的各向异性湿法刻蚀制备工艺研究,制备了适用于软X射线中波波段的闪耀光栅,以满足国家同步辐射光源的需要.首先,基于严格耦合波法对小闪耀角光栅进行了结构参数优化及工艺容差分析.在晶向对准过程中,先通过环形预刻蚀确定硅片晶向,再基于倍频调整法实现光栅掩模与单晶硅<111>晶向的对准.研究了光刻胶灰化技术及活性剂对光栅槽形质量的影响,并通过单晶硅各向异性湿法刻蚀工艺成功制备了接近于理想锯齿槽形的闪耀光栅.实验结果…查看全部>>
In order to meet the requirements of the national synchrotron radiation source,the anisotropic wet-etching technology of monocrystalline silicon grating with small blazed angle is studied,and the blazed grat-ing suitable for the medium wave soft X-ray band is prepared.Based on the rigorously coupled wave theory,the structural parameters and process tolerance of the small blazed angle grating are designed.In the crystal alignment process,the crystal orientati…查看全部>>
徐昊宇;姜岩秀;陈星硕;王瑞鹏;张靖;巴音贺希格
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所,吉林长春 130033||中国科学院大学,北京 100049中国科学院长春光学精密机械与物理研究所,吉林长春 130033中国科学院长春光学精密机械与物理研究所,吉林长春 130033||中国科学院大学,北京 100049中国科学院长春光学精密机械与物理研究所,吉林长春 130033||中国科学院大学,北京 100049中国科学院长春光学精密机械与物理研究所,吉林长春 130033||中国科学院大学,北京 100049中国科学院长春光学精密机械与物理研究所,吉林长春 130033
计算机与自动化
闪耀光栅单晶硅晶向对准湿法刻蚀
blazed gratingmonocrystalline siliconcrystalline alignmentwet etching
《中国光学（中英文）》 2024 (5)
1139-1149,11
国家自然科学基金项目(No.U21A20509)中国科学院关键核心技术攻关项目(No.20200602051ZP)吉林省自然科学基金项目(No.20210101139JC)中国科学院科学仪器设备开发项目(No.YJKYYQ20200003)中国科学院青年创新促进会项目(No.2022218) Supported by the National Natural Science Foundation of China(No.U21A20509)Key Core Technology Re-search Project of Chinese Academy of Sciences(No.20200602051ZP)Natural Science Foundation of Jilin Province(No.20210101139JC)Scientific Instrument and Equipment Development Project of Chinese Academy of Sciences(No.YJKYYQ20200003)Youth Innovation Promotion Association of the Chinese Academy of Sciences(No.2022218)
评论