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硅/硅低温直接键合的工艺调控及应用

李东玲 兰芬芬 崔笑寒

传感技术学报2024,Vol.37Issue(10):P.1674-1680,7.
传感技术学报2024,Vol.37Issue(10):P.1674-1680,7.DOI:10.3969/j.issn.1004-1699.2024.10.003

硅/硅低温直接键合的工艺调控及应用

李东玲 1兰芬芬 1崔笑寒1

作者信息

  • 1. 重庆大学光电技术及系统教育部重点实验室,重庆400030 重庆大学新型微纳器件与系统技术国防重点学科实验室,重庆400030
  • 折叠

摘要

关键词

氧等离子体/直接键合/正交实验/界面特性/频带拓展

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

李东玲,兰芬芬,崔笑寒..硅/硅低温直接键合的工艺调控及应用[J].传感技术学报,2024,37(10):P.1674-1680,7.

基金项目

国家自然科学基金项目(61804016) (61804016)

成都市重点研发支撑计划项目(2023-YF11-00063-HZ) (2023-YF11-00063-HZ)

重庆大学仪器设备功能开发项目(gnkf2022012)。 (gnkf2022012)

传感技术学报

OA北大核心CSTPCD

1004-1699

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