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Al_(2)O_(3)/HfO_(2)双钝化层微波氢终端金刚石MOSFET特性研究

陈志豪 延波 徐跃杭

真空电子技术Issue(5):P.71-77,82,8.
真空电子技术Issue(5):P.71-77,82,8.DOI:10.16540/j.cnki.cn11-2485/tn.2024.05.09

Al_(2)O_(3)/HfO_(2)双钝化层微波氢终端金刚石MOSFET特性研究

陈志豪 1延波 1徐跃杭1

作者信息

  • 1. 电子科技大学电子科学与工程学院,四川成都611731
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摘要

关键词

氢终端金刚石/漏极泄漏电流/金属-绝缘体-半导体电容模型/Al_(2)O_(3)/HfO_(2)双钝化层

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

陈志豪,延波,徐跃杭..Al_(2)O_(3)/HfO_(2)双钝化层微波氢终端金刚石MOSFET特性研究[J].真空电子技术,2024,(5):P.71-77,82,8.

基金项目

国家自然科学基金(61922021)。 (61922021)

真空电子技术

1002-8935

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