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单晶碳化硅电化学机械抛光液的组分设计与优化

顾志斌 王浩祥 宋鑫 康仁科 高尚

金刚石与磨料磨具工程2024,Vol.44Issue(5):P.675-684,10.
金刚石与磨料磨具工程2024,Vol.44Issue(5):P.675-684,10.DOI:10.13394/j.cnki.jgszz.2023.0246

单晶碳化硅电化学机械抛光液的组分设计与优化

顾志斌 1王浩祥 1宋鑫 1康仁科 1高尚1

作者信息

  • 1. 大连理工大学,高性能精密制造全国重点实验室,辽宁大连116024
  • 折叠

摘要

关键词

单晶碳化硅/电化学氧化/抛光液成分/表面粗糙度/材料去除率

分类

矿业与冶金

引用本文复制引用

顾志斌,王浩祥,宋鑫,康仁科,高尚..单晶碳化硅电化学机械抛光液的组分设计与优化[J].金刚石与磨料磨具工程,2024,44(5):P.675-684,10.

基金项目

国家重点研发计划(2022YFB3404304) (2022YFB3404304)

国家自然科学基金(51975091,51991372) (51975091,51991372)

河南省科技重大专项(221100230100)。 (221100230100)

金刚石与磨料磨具工程

OA北大核心CSTPCD

1006-852X

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