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双膜层ITO/SiO_(2)薄膜制备及其膜电阻均匀性研究

朱治坤 陈婉婷 陈静 朱常青 刘荣梅

表面技术2024，Vol.53Issue(24)：P.188-196,9.
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表面技术2024，Vol.53Issue(24)：P.188-196,9.DOI:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2024.24.017

双膜层ITO/SiO_(2)薄膜制备及其膜电阻均匀性研究

朱治坤 1陈婉婷 2陈静 2朱常青 3刘荣梅4

作者信息

  • 1. 芜湖奇瑞信息技术有限公司
  • 2. 安徽工程大学材料科学与工程学院
  • 3. 芜湖长信科技股份有限公司
  • 4. 安徽工程大学化学与环境工程学院
  • 折叠

摘要

关键词

磁控溅射法/ITO/SiO_(2)双膜层/微观结构/膜电阻均匀性

分类

通用工业技术

引用本文复制引用

朱治坤,陈婉婷,陈静,朱常青,刘荣梅..双膜层ITO/SiO_(2)薄膜制备及其膜电阻均匀性研究[J].表面技术,2024,53(24):P.188-196,9.

基金项目

国家自然科学基金青年基金项目(52201099) （52201099）

安徽省教育厅项目(2024AH050121)。 （2024AH050121）

表面技术

OA北大核心CSTPCD

1001-3660

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