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碳化硅机械密封在去离子水系统中的腐蚀机理分析与防护

张波 汪正炜 江峰 郝清亮 尹传涛

船电技术2025，Vol.45Issue(2)：P.1-4,4.
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船电技术2025，Vol.45Issue(2)：P.1-4,4.DOI:10.13632/j.meee.2025.02.002

碳化硅机械密封在去离子水系统中的腐蚀机理分析与防护

张波 1汪正炜 1江峰 1郝清亮 1尹传涛1

作者信息

  • 1. 武汉船用电力推进装置研究所,武汉430064
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摘要

关键词

机械密封/去离子水/腐蚀

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张波,汪正炜,江峰,郝清亮,尹传涛..碳化硅机械密封在去离子水系统中的腐蚀机理分析与防护[J].船电技术,2025,45(2):P.1-4,4.

船电技术

1003-4862

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