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基于电子场发射性能的高导电性金刚石/碳纳米墙薄膜的一步法制备

徐戴 卢嘉琪 刘鲁生 杨越朝 关印 黄楠 姜辛 杨兵

表面技术2025，Vol.54Issue(6)：P.194-205,12.
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表面技术2025，Vol.54Issue(6)：P.194-205,12.DOI:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2025.06.018

基于电子场发射性能的高导电性金刚石/碳纳米墙薄膜的一步法制备

徐戴 1卢嘉琪 1刘鲁生 2杨越朝 2关印 2黄楠 1姜辛 2杨兵1

作者信息

  • 1. 中国科学院金属研究所,沈阳110016 中国科学技术大学材料科学与工程学院,沈阳110016
  • 2. 中国科学院金属研究所,沈阳110016
  • 折叠

摘要

关键词

金刚石/石墨/复合薄膜/中间层/场致电子发射/化学气相沉积

分类

矿业与冶金

引用本文复制引用

徐戴,卢嘉琪,刘鲁生,杨越朝,关印,黄楠,姜辛,杨兵..基于电子场发射性能的高导电性金刚石/碳纳米墙薄膜的一步法制备[J].表面技术,2025,54(6):P.194-205,12.

基金项目

国家自然科学基金(52172056) （52172056）

辽宁省自然科学基金(2022MS009)。 （2022MS009）

表面技术

OA北大核心

1001-3660

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