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Ta/Cu缓冲层对CoFe/FeMn交换偏置的性能调控

贡佳伟 高烨 李广 刘奕帆 王磊

安徽大学学报(自然科学版)2025，Vol.49Issue(3)：P.35-41,7.
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安徽大学学报(自然科学版)2025，Vol.49Issue(3)：P.35-41,7.DOI:10.3969/j.issn.1000-2162.2025.03.006

Ta/Cu缓冲层对CoFe/FeMn交换偏置的性能调控

贡佳伟 1高烨 2李广 1刘奕帆 2王磊1

作者信息

  • 1. 安徽大学材料科学与工程学院,信息材料与器件安徽省重点实验室,安徽合肥230601
  • 2. 内蒙古大学物理科学与技术学院,内蒙古自治区呼和浩特010021
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摘要

关键词

交换偏置/缓冲层/自旋电子学器件

分类

通用工业技术

引用本文复制引用

贡佳伟,高烨,李广,刘奕帆,王磊..Ta/Cu缓冲层对CoFe/FeMn交换偏置的性能调控[J].安徽大学学报(自然科学版),2025,49(3):P.35-41,7.

基金项目

国家重点研发计划项目(2017YFA0403503)。 （2017YFA0403503）

安徽大学学报(自然科学版)

OA北大核心

1000-2162

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