发光学报2025，Vol.46Issue(8)：P.1496-1506,11.DOI:10.37188/CJL.20250021
联苯基席夫碱化合物聚集诱导发光特性及潜指纹成像
摘要
关键词
联苯基席夫碱/聚集诱导发光/潜指纹成像分类
化学化工引用本文复制引用
蒋庆一,陈春琳,李杉,陈英贺,董官茞,张帮翠,高树林,王建飞,杨艳华..联苯基席夫碱化合物聚集诱导发光特性及潜指纹成像[J].发光学报,2025,46(8):P.1496-1506,11.基金项目
云南省“兴滇英才支持计划”青年人才专项项目(ZX20230278)。 （ZX20230278）
