金刚石与磨料磨具工程2025，Vol.45Issue(4)：P.504-516,13.DOI:10.13394/j.cnki.jgszz.2024.0070
SiC衬底精密抛光分子动力学模拟研究进展
张佳誉 1孟二超 1孙建林 1季建忠2
作者信息
- 1. 北京科技大学材料科学与工程学院,北京100083
- 2. 特鲁利(苏州)材料科技有限公司,江苏苏州215127
- 折叠
摘要
关键词
碳化硅/分子动力学模拟/化学机械抛光/去除机理/辅助增效分类
信息技术与安全科学引用本文复制引用
张佳誉,孟二超,孙建林,季建忠..SiC衬底精密抛光分子动力学模拟研究进展[J].金刚石与磨料磨具工程,2025,45(4):P.504-516,13.
