硅酸盐学报2025，Vol.53Issue(9)：2419-2420,2.
新一代铁电薄膜与器件的发展机遇和挑战
Opportunities and Challenges of Next-Generation Ferroelectric Thin Films and Devices
李千 1李敬锋 1南策文1
作者信息
- 1. 清华大学材料学院,新型陶瓷材料全国重点实验室,北京 100084
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摘要
关键词
铁电薄膜/信息技术/集成电路/存储器/电光器件Key words
ferroelectric thin film/information technology/integrated circuit/memory/electro-optic device分类
通用工业技术引用本文复制引用
李千,李敬锋,南策文..新一代铁电薄膜与器件的发展机遇和挑战[J].硅酸盐学报,2025,53(9):2419-2420,2.
