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基底偏压调控超薄PI薄膜表面铜涂层的结构和性能

钟利 陈美艳 刘旋 张悦 姚可 姜亚南 魏于苹

原子能科学技术2025,Vol.59Issue(S2):P.534-542,9.
原子能科学技术2025,Vol.59Issue(S2):P.534-542,9.DOI:10.7538/yzk.2025.youxian.0228

基底偏压调控超薄PI薄膜表面铜涂层的结构和性能

钟利 1陈美艳 1刘旋 1张悦 1姚可 1姜亚南 1魏于苹1

作者信息

  • 1. 核工业西南物理研究院,四川成都610207
  • 折叠

摘要

关键词

直流磁控溅射镀膜/聚酰亚胺薄膜/负偏压/表面金属化/XPS

分类

能源科技

引用本文复制引用

钟利,陈美艳,刘旋,张悦,姚可,姜亚南,魏于苹..基底偏压调控超薄PI薄膜表面铜涂层的结构和性能[J].原子能科学技术,2025,59(S2):P.534-542,9.

基金项目

中核集团“青年英才”项目(2023JZYF-01,2022JZYF-04) (2023JZYF-01,2022JZYF-04)

西物创新行动项目(202301XWCX003)。 (202301XWCX003)

原子能科学技术

OA北大核心

1000-6931

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