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磁控溅射不同厚度MoS_(2)涂层的析氢反应性能研究

张珂嘉 姚明镜 宦欢 张虹 王文倩 唐国庆 金凡亚

表面技术2025，Vol.54Issue(22)：P.170-177,207,9.
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表面技术2025，Vol.54Issue(22)：P.170-177,207,9.DOI:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2025.22.016

磁控溅射不同厚度MoS_(2)涂层的析氢反应性能研究

张珂嘉 1姚明镜 2宦欢 1张虹 1王文倩 1唐国庆 1金凡亚1

作者信息

  • 1. 核工业西南物理研究院,成都610200
  • 2. 核工业西南物理研究院,成都610200 成都理工大学工程技术学院,四川乐山614000
  • 折叠

摘要

关键词

电解水制氢/金属相硫化钼/电化学析氢催化/涂层厚度

分类

通用工业技术

引用本文复制引用

张珂嘉,姚明镜,宦欢,张虹,王文倩,唐国庆,金凡亚..磁控溅射不同厚度MoS_(2)涂层的析氢反应性能研究[J].表面技术,2025,54(22):P.170-177,207,9.

基金项目

西物创新行动项目(202301XWCX003) （202301XWCX003）

乐山市科技局项目(23GZD014)。 （23GZD014）

表面技术

OA北大核心

1001-3660

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