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不同温度下AlGaN/GaN HEMT直流特性研究

谷海燕 张贺秋 朱江 徐林欣 吴一航 梁晓华

大连理工大学学报2025,Vol.65Issue(6):P.638-645,8.
大连理工大学学报2025,Vol.65Issue(6):P.638-645,8.DOI:10.7511/dllgxb202506013

不同温度下AlGaN/GaN HEMT直流特性研究

谷海燕 1张贺秋 1朱江 1徐林欣 1吴一航 1梁晓华2

作者信息

  • 1. 大连理工大学集成电路学院,辽宁大连116620
  • 2. 中国科学院高能物理研究所,北京100049
  • 折叠

摘要

关键词

AlGaN/GaN HEMT/高温特性/自热效应/TCAD/电子饱和速度

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

谷海燕,张贺秋,朱江,徐林欣,吴一航,梁晓华..不同温度下AlGaN/GaN HEMT直流特性研究[J].大连理工大学学报,2025,65(6):P.638-645,8.

基金项目

国家自然科学基金资助项目(11975257,12075045,11875097,62074146) (11975257,12075045,11875097,62074146)

中央高效基本科研业务费专项资金资助项目(DUT20RC(3)042,DUT19RC(3)074,DUT19LK45)。 (DUT20RC(3)

大连理工大学学报

OA北大核心

1000-8608

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