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基于辅助阳极的氧化铟锡射频磁控溅射离子能量分布调控

黄天源赵一凡莫超超梅杨张潇漫季佩宇吴雪梅

物理学报2025，Vol.74Issue(23)：P.239-248,10.

物理学报2025，Vol.74Issue(23)：P.239-248,10.DOI:10.7498/aps.74.20251172

黄天源 ¹赵一凡 ²莫超超 ³梅杨 ²张潇漫 ²季佩宇 ⁴吴雪梅²

作者信息

1. 苏州大学物理科学与技术学院,苏州215000 苏州大学,前沿材料物理与器件省高校重点实验室,苏州215000 苏州大学,江苏省先进负碳技术重点实验室,苏州215000
2. 苏州大学物理科学与技术学院,苏州215000 苏州大学,前沿材料物理与器件省高校重点实验室,苏州215000
3. 苏州迈为科技股份有限公司,苏州215000
4. 南通大学微电子学院(集成电路学院),南通226019
折叠

射频磁控溅射/氧化铟锡/离子能量分布/辅助阳极

通用工业技术

黄天源,赵一凡,莫超超,梅杨,张潇漫,季佩宇,吴雪梅..基于辅助阳极的氧化铟锡射频磁控溅射离子能量分布调控[J].物理学报,2025,74(23):P.239-248,10.

国家重点研发计划(批准号:2022YFE03050001) （批准号:2022YFE03050001）

国家自然科学基金(批准号:12405293,12175160,12305284,12405237) （批准号:12405293,12175160,12305284,12405237）

江苏省高等学校基础科学(自然科学)研究项目(批准号:24KJD140003)资助的课题。（自然科学）

OA北大核心

ISSN：1000-3290

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