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阵列式微细管介质阻挡放电高效清洗晶圆表面光刻胶研究

姜楠 郭煜 王荣刚 孙玉荣 孙新怡 王雅文 于广林 李杰

中国电机工程学报2026，Vol.46Issue(4)：P.1698-1707,I0034,11.
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中国电机工程学报2026，Vol.46Issue(4)：P.1698-1707,I0034,11.DOI:10.13334/j.0258-8013.pcsee.242301

阵列式微细管介质阻挡放电高效清洗晶圆表面光刻胶研究

姜楠 1郭煜 1王荣刚 2孙玉荣 2孙新怡 1王雅文 1于广林 1李杰1

作者信息

  • 1. 大连理工大学电气工程学院,辽宁省大连市116024
  • 2. 苏州天华新能源科技股份有限公司,江苏省苏州市215121
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摘要

关键词

介质阻挡放电/等离子体清洗/晶圆污染/光刻胶/亲水性

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

姜楠,郭煜,王荣刚,孙玉荣,孙新怡,王雅文,于广林,李杰..阵列式微细管介质阻挡放电高效清洗晶圆表面光刻胶研究[J].中国电机工程学报,2026,46(4):P.1698-1707,I0034,11.

基金项目

苏州市产业前瞻与关键核心技术重点研究项目(SYC2022029) （SYC2022029）

国家自然科学基金项目(52377137)。 （52377137）

中国电机工程学报

0258-8013

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