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原位X射线表征下金属有机化学气相沉积氮化物外延生长动力学研究进展

鞠光旭 林祺辉 徐尔骐 王新强 葛惟昆 董宇辉 徐科 沈波

物理学报2026，Vol.75Issue(4)：P.213-233,21.
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物理学报2026，Vol.75Issue(4)：P.213-233,21.DOI:10.7498/aps.75.20251197

原位X射线表征下金属有机化学气相沉积氮化物外延生长动力学研究进展

鞠光旭 1林祺辉 1徐尔骐 1王新强 1葛惟昆 1董宇辉 2徐科 3沈波1

作者信息

  • 1. 北京大学物理学院,人工微结构和介观物理国家重点实验室,北京100871
  • 2. 中国科学院高能物理研究所,北京100049
  • 3. 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所,苏州215123
  • 折叠

摘要

关键词

金属有机化学气相沉积外延生长/Ⅲ族氮化物半导体/宽禁带半导体/原位X射线表征/表界面生长动力学/同步辐射X射线

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

鞠光旭,林祺辉,徐尔骐,王新强,葛惟昆,董宇辉,徐科,沈波..原位X射线表征下金属有机化学气相沉积氮化物外延生长动力学研究进展[J].物理学报,2026,75(4):P.213-233,21.

基金项目

国家重点研发计划(批准号:2023YFE0124600) （批准号:2023YFE0124600）

国家自然科学基金(批准号:62574008)资助的课题。 （批准号:62574008）

物理学报

1000-3290

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