真空电子技术Issue(4)：P.32-39,52,9.DOI:10.16540/j.cnki.cn11-2485/tn.2026.04.04
电子束曝光机用LaB_(6)阴极组件研究进展
郝广辉 1张珂 1梅璐瑶1
作者信息
- 1. 北京真空电子技术研究所,北京100015
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摘要
关键词
电子束曝光/LaB_(6)单晶/热发射阴极/精密加工/电子源分类
信息技术与安全科学引用本文复制引用
郝广辉,张珂,梅璐瑶..电子束曝光机用LaB_(6)阴极组件研究进展[J].真空电子技术,2026,(4):P.32-39,52,9.
