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Interface-engineered vanadium-tungsten nitride nanolaminate thin films for high-performance micro-supercapacitors

Khac Huy Dinh Kevin Robert Jérémie Chaillou Lydia Karmazin Isabelle Roch-Jeune Chiara Crivello Marielle Huvé David Troadec Christophe Lethien Pascal Roussel

Journal of Materiomics2026，Vol.12Issue(5)：P.244-253,10.

Journal of Materiomics2026，Vol.12Issue(5)：P.244-253,10.DOI:10.1016/j.jmat.2026.101280

Interface-engineered vanadium-tungsten nitride nanolaminate thin films for high-performance micro-supercapacitors

Khac Huy Dinh ¹Kevin Robert ²Jérémie Chaillou ³Lydia Karmazin ⁴Isabelle Roch-Jeune ³Chiara Crivello ³Marielle Huvé ⁵David Troadec ³Christophe Lethien ⁶Pascal Roussel⁵

作者信息

1. Institut d’Électronique,de Microélectronique et de Nanotechnologies,Universitéde Lille,CNRS,UniversitéPolytechnique Hauts-de-France,UMR 8520–IEMN,F-59000,Lille,France Unitéde Catalyse et de Chimie du Solide(UCCS),Universitéde Lille,CNRS,Centrale Lille,Universitéd’Artois,UMR 8181–UCCS,F-59000,Lille,France Réseau sur le Stockage Electrochimique de l’Énergie(RS2E),CNRS,FR 3459,33 rue Saint Leu,80039,Amiens,Cedex,France
2. Institut d’Électronique,de Microélectronique et de Nanotechnologies,Universitéde Lille,CNRS,UniversitéPolytechnique Hauts-de-France,UMR 8520–IEMN,F-59000,Lille,France Unitéde Catalyse et de Chimie du Solide(UCCS),Universitéde Lille,CNRS,Centrale Lille,Universitéd’Artois,UMR 8181–UCCS,F-59000,Lille,France
3. Institut d’Électronique,de Microélectronique et de Nanotechnologies,Universitéde Lille,CNRS,UniversitéPolytechnique Hauts-de-France,UMR 8520–IEMN,F-59000,Lille,France Réseau sur le Stockage Electrochimique de l’Énergie(RS2E),CNRS,FR 3459,33 rue Saint Leu,80039,Amiens,Cedex,France
4. Institut Michel-Eugène Chevreul(IMEC),Universitéde Lille,CNRS,Centrale Lille,UAR 2638–IMEC,F-59000,Lille,France
5. Unitéde Catalyse et de Chimie du Solide(UCCS),Universitéde Lille,CNRS,Centrale Lille,Universitéd’Artois,UMR 8181–UCCS,F-59000,Lille,France
6. Institut d’Électronique,de Microélectronique et de Nanotechnologies,Universitéde Lille,CNRS,UniversitéPolytechnique Hauts-de-France,UMR 8520–IEMN,F-59000,Lille,France Réseau sur le Stockage Electrochimique de l’Énergie(RS2E),CNRS,FR 3459,33 rue Saint Leu,80039,Amiens,Cedex,France Institut Universitaire de France(IUF),Paris,France
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摘要

关键词

Micro-supercapacitors/Pseudocapacitance/Nanolaminates/Multicationic nitrides/Orientation growth/Energy storage

分类

信息技术与安全科学

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Khac Huy Dinh,Kevin Robert,Jérémie Chaillou,Lydia Karmazin,Isabelle Roch-Jeune,Chiara Crivello,Marielle Huvé,David Troadec,Christophe Lethien,Pascal Roussel..Interface-engineered vanadium-tungsten nitride nanolaminate thin films for high-performance micro-supercapacitors[J].Journal of Materiomics,2026,12(5):P.244-253,10.

基金项目

This project received funding from the European Union’s Horizon 2020 research and innovation program under the Marie Sklodowska-Curie grant agreement no.847568 （）

The authors thank the French National Research Agency(STORE-EX Labex Project ANR-10-LABX-76-01 and ARTEMIS ANR project) （STORE-EX Labex Project ANR-10-LABX-76-01 and ARTEMIS ANR project）

The French RENATECH network and the University of Lille are greatly acknowledged for supporting the Center of MicroNanoFabrication(CMNF)facility from IEMN.The authors also want to thank Chevreul Institute(CNRS UAR 2638)for funding XRD and TEM facilities.This work was supported by a public grant overseen by the French National Research Agency(ANR)as part of the“Investissements d’Avenir”program(reference:ANR-10-EQPX-45).This work received funding from the CPER Hauts de France projects IMITECH and CHEMACT. （CMNF）

Journal of Materiomics

ISSN：2352-8478

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