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ACF氮等离子体改性对负载型TiO2催化剂光催化性能的影响北大核心CSTPCD
作者：莫德清
发表期刊：桂林工学院学报 2008年4期
关键词：活性炭纤维等离子体改性2负载XPS表面结构光催化性能
摘要：为了解载体表面改性对负载型光催化剂表面活性的影响,采用氮等离子体对活性炭纤维表面进行改性,并以钛酸四丁酯为前驱体,水解法负载TiO2,制备了复合光催化剂.通过扫描电子显微镜观察了复合光催化剂的表面形貌;用氮气吸附法比较了活性炭纤维表面改性前后负载2样品的比表面积和孔隙分布的情况;利用XPS测试分析了利用改性前后活性炭纤维负载2的复合光催化剂表面的化学结构.结果表明,载体表面改性前后获得的复合光催化剂样品具有相似的形貌和孔隙结构;而载体…查看全部>>
硅基3C-SiC的热氧化机理北大核心CSCDCSTPCD
作者：赵永梅孙国胜刘兴昉李家业赵万顺王雷罗木昌李晋闽
发表期刊：半导体学报 2007年z1期
关键词：3C-SiC热氧化XPS氧化机理
摘要：采用低压化学气相沉积(LPCVD)方法在Si(100)衬底上外延生长3C-SiC.利用干氧氧化方法对生长的SiC层进行了热氧化,氧化温度为1050℃.采用X射线光电子能谱仪(XPS),结合Ar+溅射技术,在不同的溅射时间下,对氧化生长的SiO2层及SiO2/SiC界面层的化学键和组成成分进行了深度谱分析,在此基础上提出了热氧化模型,探讨了3C-SiC的热氧化机理.
4H-SiC(0001)(3×3)重构的原子能态北大核心CSCDCSTPCD
作者：王秀娥章小丽
发表期刊：北京交通大学学报（自然科学版） 2008年6期
关键词：4H-SiC重构能态LEEDXPS束缚能能量漂移
摘要：为了探索SiC表面的结构和原子的能态,在650 ℃条件下,用低能电子衍射(LEED仪),观察到4H-SiC(0001)(3×3)重构面的LEED图样,利用配备有XPS设备的电子能量分析器,记录SiC(0001)(3×3)重构的角分辨X射线光电子能谱(XPS),得出该结构中Si2p和C1s的能态结构,进而发现SiC(0001)(3×3)重构面仅由硅原子形成,是在扭转的硅增层上的Si四聚物.通过比较体内和表面Si2p态的光电子能谱,…查看全部>>
矿物表面金属离子组分与糊精的相互作用（Ⅱ）──糊精在氧化矿及盐类矿物表面吸附的XPS及AES研究北大核心
作者：李晔刘奇王典芬许时
发表期刊：化工矿山技术 1994年3期
关键词：糊精XPSAES矿物分析
摘要：借助于光电子能谱（ＸＰＳ）及俄歇电子能谱（ＡＥＳ）测试，系统地研究了糊精在氧化矿及盐类矿物表面的作用行为．发现糊精在赤铁矿、金红石、方解石和重晶石表面作用前后晶格金属元素键合状态发生了显著变化，其本质为化学作用，而糊精在萤石表面作用前后，Ｃａ的结合能及俄歇参数变化较小，化学作用较弱，更接近于氢键等物理作用。
p型GaN材料的表面物理特性北大核心CSCDCSTPCD
作者：薛松韩彦军郭文平孙长征郝智彪罗毅
发表期刊：半导体学报 2003年12期
关键词：p-GaN表面处理XPSAES
摘要：运用X射线光电子能谱(XPS)和俄歇电子能谱(AES)等表面分析手段对表面状态不同的p-GaN样品进行了分析.在样品表面制作了Ni/Au电极并进行了I-V特性测试.实验结果表明样品表面镓氮元素化学比(Ga/N)的减小以及C,O杂质含量的减少可以改善电极的欧姆接触性能.
非晶Ni19Zr9Al72合金表面状态的研究
作者：王西科杨占胜
发表期刊：郑州工业大学学报 1998年1期
关键词：表面状态非晶态合金AESXPS
摘要：采用俄歇电子能谱，Ｘ射线光电子能谱，并结合氢离子溅射剥层，研究了非晶Ｎｉ１９Ｚｒ９Ａｌ７２合金条带的表面状态。结果表明，在条带表层，Ｎｉ以金属态存在，Ａｌ和Ｚｒ被选择氧化，且Ａｌ被优先选择氧化。条带两则表面均被一薄层氧化物覆盖，氧化物的主要组分是Ａｌ２Ｏ３另有少量的ＺｒＯ２。
不同工艺制备的ta-C和ta-C:N薄膜表面粗糙度研究CSCDCSTPCD
作者：张化宇刘良学马洪涛刘凡新刘会良王东
发表期刊：材料科学与工程学报 2006年5期
关键词：ta-C:NAFMXPS粗糙度
摘要：采用FCVA工艺成功制备了ta-C薄膜,采用ECR-CVD工艺对部分ta-C薄膜试样进行氮等离子体处理,制备了ta-C:N薄膜.对两种薄膜的表面粗糙度与元素含量、沉积工艺参数之间的关系进行了研究.通过AFM对薄膜表面粗糙度进行了分析,通过XPS对薄膜的元素含量进行了分析.试验结果显示,沉积条件对薄膜厚度和元素含量具有明显的影响.对ta-C薄膜进行氮等离子体处理后,其表面粗糙度有一个明显的起伏变化.研究结果表明,氮能改变DLC薄膜表面的…查看全部>>
XPS、AFM和ToF-SIMS的工作原理及在植物纤维表面分析中的应用CSCDCSTPCD
作者：雷晓春林鹿李可成
发表期刊：中国造纸学报 2006年4期
关键词：XPSAFMToF-SIMS原理纤维表面
摘要：介绍了先进的表面分析仪器化学分析电子能谱(XPS)、原子力显微镜(AFM)、含飞行时间分析器的二次离子质谱仪(ToF-SIMS)的工作原理,回顾了近年来它们在植物纤维表面分析中的成功应用,综合利用XPS、AFM及ToF-SIMS方法,可分析和解决制浆造纸过程中的现象和问题.
C+注入a-SiNx:H的原子化学键合的研究北大核心CSCDCSTPCD
作者：陈超刘渝珍董立军陈大鹏王小波
发表期刊：半导体学报 2007年3期
关键词：C+注入SiCNXPS高温退火
摘要：常温下对低压化学气相沉积制备的纳米硅镶嵌结构的a-SiNx∶H薄膜进行C+注入,能量为30kev,剂量为2×1017 cm-2.对C+注入的SiNx薄膜在800℃的温度下,进行2h的常规炉退火处理.通过XPS,AES的测量得到,经800℃高温退火处理后的薄膜形成了部分SiCxNy结构.用喇曼、XPS等分析手段对薄膜结构及成分进行了测量与分析,得到不同退火温度对离子注入形成SiCN薄膜结构与成分的影响,认为高温退火后薄膜中硅含量与SiC…查看全部>>
制备CFC替代品氟化催化剂的XPS研究CSCD
作者：白占旗张建君
发表期刊：宁夏大学学报（自然科学版） 2001年2期
关键词：CFC替代品氟化催化剂XPS
摘要：对氟化催化剂在不同气氛下焙烧进行了研究.XPS结果表明:不同气氛下形成了不同组成的铬物种.

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