电子元件与材料2008，Vol.27Issue(4)：10-13,4.
低介电常数氟化非晶碳薄膜的制备与检测
Preparation and testing technology of fluorinated amorphous carbon thin films with low dielectric constant
高金定 1刘雄飞 2肖剑荣2
作者信息
- 1. 湖南涉外经济学院,电气与信息工程学部,湖南,长沙,410205
- 2. 中南大学,物理学院,湖南,长沙,410083
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摘要
关键词
半导体技术/a-C:F薄膜/综述/制备/检测/性能分类
信息技术与安全科学引用本文复制引用
高金定,刘雄飞,肖剑荣..低介电常数氟化非晶碳薄膜的制备与检测[J].电子元件与材料,2008,27(4):10-13,4.
