电子元件与材料2000,Vol.19Issue(6):15-16,2.
PTCR元件化学镀镍电极的最优工艺条件
The optimum electroless plating technology for nickel electrode of PTCR component
龚树萍 1吕红英 1张道礼 1周东祥1
作者信息
- 1. 华中科技大学,电子科学与技术系,湖北,武汉,43007
- 折叠
摘要
关键词
化学镀镍电极/化学镀镍工艺/耐电压/耐工频电流冲击分类
信息技术与安全科学引用本文复制引用
龚树萍,吕红英,张道礼,周东祥..PTCR元件化学镀镍电极的最优工艺条件[J].电子元件与材料,2000,19(6):15-16,2.