电子元件与材料2006，Vol.25Issue(5)：23-26,4.
热丝化学气相沉积制备多晶硅薄膜的研究
Deposition and Characteristics of Poly-silicon Films by Hot-wire CVD
摘要
关键词
无机非金属材料/热丝化学气相沉积/多晶硅薄膜/晶态比/择优取向分类
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刘韶华,刘艳红,吕博佳,温小琼..热丝化学气相沉积制备多晶硅薄膜的研究[J].电子元件与材料,2006,25(5):23-26,4.基金项目
辽宁省优秀青年教师培训基金资助项目(893204) （893204）
