首页|期刊导航|电子元件与材料|改进工艺提高薄膜附着力

改进工艺提高薄膜附着力OA北大核心CSCDCSTPCD

Improvement of film bounding capacity by improving technology.

中文摘要

薄膜制作技术在混合集成电路中扮演十分重要的角色.附着力的强弱是影响薄膜电路质量最关键的因素.通过实验,查明了膜系结构、金属相间扩散、溅射金属化气氛、清洗等方面导致薄膜起层的原因,并选择出最佳工艺条件.

秦跃利;高能武;吴云海

西南电子设备研究所,四川,成都,610036西南电子设备研究所,四川,成都,610036西南电子设备研究所,四川,成都,610036

信息技术与安全科学

薄膜附着力扩散气氛

《电子元件与材料》 2000 (1)

26-27,2

评论

您当前未登录!去登录点击加载更多...