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ULSI用氟化类金刚石薄膜的研究

肖剑荣 徐慧 简献忠

电子元件与材料2007，Vol.26Issue(1)：30-32,3.
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电子元件与材料2007，Vol.26Issue(1)：30-32,3.

ULSI用氟化类金刚石薄膜的研究

Study on fluorinated diamond-like carbon films for ULSI

肖剑荣 1徐慧 2简献忠1

作者信息

  • 1. 中南大学物理科学与技术学院,湖南,长沙,410083
  • 2. 中南大学材料科学与工程学院,湖南,长沙,410083
  • 折叠

摘要

关键词

半导体技术/氟化类金刚石薄膜/沉积功率/介电常数

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

肖剑荣,徐慧,简献忠..ULSI用氟化类金刚石薄膜的研究[J].电子元件与材料,2007,26(1):30-32,3.

基金项目

湖南省自然科学基金资助项目(05JJ40135) （05JJ40135）

电子元件与材料

OA北大核心CSCDCSTPCD

1001-2028

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